日光溫室起壟內(nèi)嵌式栽培基質(zhì)配比對甜椒根區(qū)溫度和植株生長及產(chǎn)量的影響
<p>為探究起壟內(nèi)嵌式栽培基質(zhì)配比對甜椒生長和根區(qū)溫度的影響,在日光溫室中以土壤栽培為對照,共設置4種不同基質(zhì)配比(體積比):草炭蛭石珍珠巖=111、211、311和321。結(jié)果表明:根區(qū)基質(zhì)溫度受兩側(cè)土壤溫度的影響,與兩側(cè)土壤溫度呈極顯著相關(guān);不同基質(zhì)配比根區(qū)溫度日變化規(guī)律不一致,但日平均溫度無顯著差異;4種基質(zhì)配比的根區(qū)晝夜平均溫差均比土壤低1.02.0?；|(zhì)配比對不同生育階段甜椒的株高、莖粗和SPAD值沒有顯著性影響,但211配比處理能顯著提高甜椒的干物質(zhì)量。4種基質(zhì)栽培的甜椒產(chǎn)量均高于土壤,其中211配比處理產(chǎn)量最高為6.46kg/m2,比土壤高103.1%。.</p>
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